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3,光电、超声波清洗行业
★水质要求: 新兴的光电材料生产、加工、超声波清洗;LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏、高品质灯管显像管、微电子工业、大规模、超大规模集成电路需用大量的高纯水、超纯水清洗半成品、成品。集成电路的集成度越高,对水质的要求也越高,这也对超纯水处理工艺及产品的简易性、自动化程度、生产的连续性、可持续性等提出了更加严格的要求.中国电子工业部电子级水质技术标准(18MΩ.cm、15MΩ.cm、10MΩ.cm、2MΩ.cm、0.5MΩ.cm五级标准) ★应用场合: ☆半导体材料、器件、印刷电路板和集成电路; ☆LCD液晶显示屏、PDP等离子显示屏; ☆高品质显像管、萤光粉生产; ☆半导体材料、晶元材料生产、加工、清洗; ☆超纯材料和超纯化学试剂、超纯化工材料; ☆实验室和中试车间; ☆汽车、家电表面抛光处理; ☆光电产品; ☆其他高科技精微产品;★工艺流程 ☆二级反渗透制备超纯水工艺流程 预处理----一级反渗透装置----中间水箱----二级反渗透装置----超纯水水箱----纯水泵----用水点 ☆一级反渗透+混床制备超纯水工艺流程 预处理----一级反渗透装置----中间水箱----中间水泵----精制混床----精密过滤器----超纯水水箱----纯水泵----用水点 ☆二级反渗透+抛光混床制备超纯水工艺流程 预处理----一级反渗透装置----中间水箱----中间水泵----二级反渗透装置----抛光混床-----精密过滤器----超纯水水箱----纯水泵----用水点 ☆二级反渗透制备+EDI制备超纯水工艺流程 预处理----一级反渗透装置----中间水箱----中间水泵----二级反渗透装置----EDI主机----超纯水水箱----纯水泵----精密过滤器----用水点
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